核徑跡防偽技術介紹 根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術采用原子能核反應堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個，微孔在平面上按統(tǒng)計規(guī)律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過特殊工藝將薄膜與基材復合，再經(jīng)過印刷而制成客戶要求的防偽標識。 核徑跡防偽技術，清華大學核能技術設計研究院與廣州傾松數(shù)碼科技有限公司合作生產的核徑跡防偽標識。 是根據(jù)用戶要求的圖案通過成像技術采用原子能核反應堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬個。 核徑跡的特點 1、核徑跡膜的生產必須使用原子核反應堆等國家專控大型核設施，國內只有極少數(shù)幾個在國家控制下的核研究單位擁有這樣的設備，是任何個人和團體不可能擁有的。目前國內唯有清華大學核能技術設計研究院的核反應堆具有生產核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業(yè)不可生產性。核徑跡防偽生產是占有獨性的 。核徑跡防偽標識的生產，還需要核物理、化學、電子、機械、光學等多學科的共同參與才能完成。 ...
發(fā)布時間:
2017
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